Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)

Код ФККО 3 71 100 00 00 0

Федеральный классификационный каталог отходов

Код отхода

3 71 100 00 00 0

Наименование отхода

Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)

Агрегатное состояние

Не требует определения агрегатного состояния и физической формы

Введено документом

Приказ Росприроднадзора от 22.05.2017 № 242 (ред. от 20.12.2024) «Об утверждении Федерального классификационного каталога отходов»

Позиция в структуре ФККО

3 00 000 00 00 0 - ОТХОДЫ ОБРАБАТЫВАЮЩИХ ПРОИЗВОДСТВ

3 70 000 00 00 0 - ОТХОДЫ ПРОИЗВОДСТВА МАШИН И ОБОРУДОВАНИЯ

3 71 000 00 00 0 - Отходы производства компьютеров, электронных и оптических изделий

3 71 100 00 00 0 - Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)

Дочерние элементы

3 71 110 00 00 0 - Отходы производства элементов электронной аппаратуры

3 71 111 51 10 3 - Раствор смеси азотной и фтористоводородной кислот, отработанный при обработке кварцевых реакторов в производстве элементов электронной аппаратуры

3 71 112 00 00 0 - Отходы производства диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части

3 71 112 31 39 4 - Отходы механической обработки кварца при изготовлении изделий пьезоэлектроники, содержащие нефтепродукты (содержание нефтепродуктов менее 10%)

3 71 112 32 40 4 - Отходы кристаллического кварца при его распиловке для изготовления изделий пьезоэлектроники незагрязненные

3 71 112 35 20 4 - Отходы серебра при металлизации поверхности изделий пьезоэлектроники

3 71 112 41 60 2 - Отходы текстильных изделий из хлопчатобумажного волокна, загрязненных мышьяком при ионном легировании в производстве базовых матричных кристаллов

3 71 112 51 10 3 - Воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов

3 71 112 52 10 3 - Растворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков

3 71 112 53 10 2 - Отходы ацетона, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов

3 71 112 54 10 2 - Отходы смеси диметилформамида и моноэтаноламина, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов

3 71 112 55 10 3 - Диметилформамид обводненный, загрязненный фоторезистом при обезжиривании и промывке поверхности полупроводниковых пластин и удалении фоторезиста

3 71 112 56 10 3 - Отходы смеси ацетона, изопропилового спирта, диметилформамида, загрязненные фоторезистом при отмывке пластин и оснастки в производстве полупроводниковых материалов

3 71 114 00 00 0 - Отходы производства кремниевых пластин для кремниевых полупроводниковых приборов

3 71 114 21 32 3 - Растворы на основе соединений сурьмы и фосфора, отработанные при легировании кремниевых пластин

3 71 114 22 10 3 - Растворы никелирования и цинкования кремниевых пластин отработанные

3 71 114 23 10 4 - Растворы на основе соединений хрома, отработанные при травлении кремниевых пластин

3 71 117 51 32 4 - Жидкие отходы промывки трубопроводов технологических стоков производства пьезокерамики на основе цирконата-титаната свинца

3 71 117 81 20 4 - Отходы зачистки оборудования приготовления суспензии пресс-порошка в производстве пьезокерамических деталей, содержащие преимущественно оксиды кальция, кремния, алюминия

ещё 43

3 71 118 21 40 4 - Отходы порошка при закалке пьезокерамических деталей в их производстве, содержащие преимущественно оксиды кальция, кремния, алюминия

3 71 118 31 72 3 - Отходы пьезокерамических материалов и пьезоэлементов на основе цирконата-титаната свинца в смеси при их производстве

3 71 119 00 00 0 - Прочие отходы производства элементов электронной аппаратуры

3 71 119 21 20 4 - Отходы кремниевых пластин в производстве кремниевых полупроводниковых приборов

3 71 119 23 20 4 - Отходы кварцевой оснастки при вакуумном напылении алюминия в производстве кремниевых полупроводниковых приборов

3 71 119 62 52 4 - Фильтры картриджные на основе полимерных волокон, загрязненные кремнием при очистке газов в производстве кремниевых полупроводниковых приборов

3 71 120 00 00 0 - Отходы производства электронных печатных плат

3 71 121 11 39 3 - Осадок нейтрализации известковым молоком отработанных растворов и промывных вод производства печатных плат

3 71 121 12 39 3 - Осадок нейтрализации сточных вод производства печатных плат

3 71 121 21 33 4 - Отходы обезвреживания растворов, отработанных в производстве печатных плат, методом осаждения и фильтрации

3 71 122 11 10 3 - Растворы перманганатные травления печатных плат отработанные

3 71 122 13 10 3 - Водный раствор калия железосинеродистого, отработанный при травлении пленок хрома поверхностей печатных плат в их производстве

3 71 122 21 10 2 - Растворы щелочные травления печатных плат отработанные

3 71 122 22 32 3 - Растворы слабощелочные, отработанные при производстве печатных плат

3 71 122 31 10 4 - Воды промывки печатных плат после их химической и гальванической обработки

3 71 122 35 10 4 - Воды промывки печатных плат, содержащие соединения марганца, при производстве печатных плат

3 71 122 41 10 2 - Моноэтаноламин, отработанный при промывке медных печатных плат в производстве печатных плат

3 71 122 42 10 3 - Отмывочная жидкость на водной основе, отработанная при отмывке печатных плат

3 71 122 43 10 3 - Спирт этиловый, загрязненный канифолью при обезжиривании печатных плат после пайки в их производстве

3 71 122 44 10 4 - Воды промывки печатных плат, нейтрализованные раствором едкого натра, при производстве печатных плат

3 71 123 11 39 3 - Отходы гидроабразивной обработки печатных плат в их производстве

3 71 124 11 20 4 - Отходы затвердевшего компаунда на основе эпоксидной диановой смолы при комплектовании микросхем и печатных плат

3 71 124 13 20 3 - Отходы полиэфирной смолы, затвердевшей в производстве печатных плат

3 71 124 31 30 3 - Отходы фоторезиста при изготовлении фоторезистивной маски на микрополосковых платах в производстве печатных плат

3 71 124 32 20 4 - Обрезки фоторезиста при нанесении фоторезиста на заготовки печатных плат в их производстве

3 71 124 34 20 3 - Отходы фоторезиста в производстве печатных плат, содержащие свинец (содержание свинца 2% и более)

3 71 125 11 20 3 - Обрезки стеклотекстолита при производстве печатных плат

3 71 125 12 60 3 - Обтирочный материал, загрязненный свинцом и оловом при изготовлении печатных плат

3 71 125 14 60 5 - Отходы фильтровальной бумаги при просушке печатных плат после гальванической обработки в их производстве

3 71 126 11 20 3 - Уголь активированный, отработанный в производстве печатных плат

3 71 127 11 42 3 - Пыль стеклотекстолита от газоочистки производства печатных плат

3 71 127 12 42 4 - Пыль стекловолокна от газоочистки производства печатных плат

3 71 127 21 39 3 - Отходы зачистки газоочистного оборудования при производстве печатных плат

3 71 127 31 20 4 - Отходы механической очистки ванн раздубливания печатных плат при производстве печатных плат

3 71 127 41 30 3 - Бутилацетат, отработанный при очистке оборудования в производстве печатных плат

3 71 128 11 10 2 - Электролит осаждения сплава олово-свинец, отработанный в производстве печатных плат

3 71 128 21 39 4 - Осадок нейтрализации гидроксидом натрия смеси электролитов, отработанных при производстве печатных плат

3 71 129 21 20 5 - Брак металлокерамических плат в производстве печатных плат

3 71 171 21 39 3 - Осадок при обработке известковым молоком медь-, фтор- и фосфорсодержащих сточных вод производств элементов электронной аппаратуры

3 71 176 21 20 4 - Ионообменные смолы, отработанные при очистке медьсодержащих сточных вод производств элементов электронной аппаратуры

3 71 176 31 52 4 - Фильтры угольные, отработанные при очистке медьсодержащих сточных вод производств элементов электронной аппаратуры

3 71 184 13 20 5 - Отходы компаунда полиуретанового затвердевшего при изготовлении элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)

3 71 185 12 30 4 - Отходы влагозащитной полимерной композиции при производстве элементов электронной аппаратуры